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Dielectric breakdown behavior of ferroelectric HfO2 capacitors by constant voltage stress studied by in situ laser-based photoemission electron microscopy
基于原位激光的光电发射电子显微镜研究恒压应力下铁电HfO2电容器的介电击穿行为
相关领域
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网址
https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ad1e84
DOI
10.35848/1347-4065/ad1e84 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Yuki Itoya; Hirokazu Fujiwara; Cédric Bareille; Shik Shin; Toshiyuki Taniuchi; Masaharu Kobayashi
出版日期：2024-01-16
求助人
hero_ljw 在 2024-12-18 13:11:54 发布自中国，悬赏 10 积分
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