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 Atomic layer deposition of Al2O3 interlayer for improving AlN growth on silicon substrates Al2O3中间层原子层沉积促进AlN在硅衬底上的生长
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期刊：Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films 作者：Rony Saha; Jonathan Anderson; M. Holtz; Edwin L. Piner 出版日期：2023-08-02 |
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