| 标题 |
Electrical properties of InGaAs/high-k oxide interfaces: measurement and simulation
InGaAs/高k氧化物界面的电学性质：测量与模拟
相关领域
材料科学
氧化物
冶金
|
| 网址 |
AI链接 kuleuven.be |
| DOI |
暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
|
| 其它 |
期刊： 作者：Guy Brammertz; Dennis Lin; Ali Reza Alian; Clément Merckling; M. S. Chang; et al 出版日期：2010-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
现代青枫
嗯哼
面向杂志编论文
寻道图强
于芋菊
从容芮
浅尝离白
kento
寒冷苗条
不配.
萧水白
sutharsons
敬老院N号
Leonardi
Frank
BQ
8R60d8
YifanWang
小平
皖公网安备34019202002308
