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 Machine Learning Applied to Electron Beam Lithography to Accelerate Process Optimization of a Contact Hole Layer 应用于电子束光刻以加速接触空穴层工艺优化的机器学习
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Rongbo Zhao; Xiaolin Wang; Yayi Wei; Xiangming He; Hong Xu 出版日期：2024-04-16 |
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