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Smoothing of fused silica with less damage by a hybrid plasma process combining isotropic etching and atom-migration
用各向同性刻蚀和原子迁移相结合的混合等离子体工艺平滑熔融石英
相关领域
材料科学
表面粗糙度
等离子体
蚀刻(微加工)
通量
抛光
激光器
表面光洁度
反应离子刻蚀
等离子体刻蚀
各向同性
图层(电子)
各向同性腐蚀
复合材料
光学
物理
量子力学
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期刊:Surfaces and interfaces 作者:Shaoxiang Liang; Ya‐Ling He; Pengbo Ding; Guo Liang; Hui Deng 出版日期:2023-10-01 |
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