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 Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application 远程等离子体原子层沉积法生长和表征掺硅Ga2O3薄膜：UVC-LED应用
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期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Xiaoying Zhang; Yue Yang; Wei‐Hang Fan; Chen Wang; Wan-Yu Wu; et al 出版日期：2022-04-01 |
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