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标题
Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application
远程等离子体原子层沉积法生长和表征掺硅Ga2O3薄膜：UVC-LED应用
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网址
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128252
DOI
10.1016/j.surfcoat.2022.128252 doi
其它 期刊：Surface & Coatings Technology
作者：Xiaoying Zhang; Yue Yang; Wei‐Hang Fan; Chen Wang; Wan-Yu Wu; et al
出版日期：2022-04-01
求助人
Ice 在 2025-03-14 09:03:12 发布自福建，悬赏 10 积分
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