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标题
Investigation of Si incorporation in (010) β-Ga2O3 films grown by plasma-assisted MBE using diluted disilane as Si source and suboxide Ga2O precursor
以稀二硅烷为硅源、低氧化Ga2O前驱体等离子体辅助MBE生长(010)β-Ga2O3薄膜中Si掺入的研究
相关领域
二硅烷 亚氧化物 分子束外延 分析化学(期刊) 兴奋剂 杂质 电子迁移率 化学 缪铵 材料科学 外延 纳米技术 光电子学 有机化学 图层(电子) 色谱法
网址
DOI
10.1063/5.0189400 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Zhuoqun Wen; Xin Zhai; Cindy Lee; Stefan Kosanovic; Yunjo Kim; et al
出版日期:2024-03-18
求助人
Jesse 在 2024-12-02 21:49:07 发布自中国,悬赏 10 积分
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