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 Vertical silicon nanowedge formation by repetitive dry and wet anisotropic etching combined with 3D self-aligned sidewall nanopatterning 通过重复干湿各向异性蚀刻结合3D自对准侧壁纳米图案化形成垂直硅纳米楔
相关领域
材料科学
干法蚀刻
硅
蚀刻（微加工）
纳米光刻
纳米技术
各向异性
反应离子刻蚀
光电子学
复合材料
工程物理
光学
制作
医学
替代医学
物理
工程类
图层（电子）
病理
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Yasser Pordeli; Céline Steenge; J.W. Berenschot; R.J.E. Hueting; Andrea Migliorini; et al 出版日期：2024-11-04 |
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