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标题
Electrical Properties of Fe‐Contaminated Oxidation‐Induced Stacking Fault in n‐Type Czochralski Silicon
n型直拉硅中铁污染氧化诱导层错的电学性质
相关领域
硅 堆积 材料科学 污染 叠加断层 直拉法 冶金 结晶学 光电子学 化学 复合材料 位错 生物 有机化学 生态学
网址
https://doi.org/10.1002/pssr.202400380
DOI
10.1002/pssr.202400380 doi
其它 期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters
作者：Ruokai Wu; Zechen Hu; Lei Yang; Jie Huang; Xuegong Yu; et al
出版日期：2025-01-29
求助人
Damiao 在 2025-02-28 13:34:40 发布自江苏，悬赏 10 积分
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