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A Comparative Study on the Ferroelectric Performances in Atomic Layer Deposited Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Using Tetrakis(ethylmethylamino) and Tetrakis(dimethylamino) Precursors
四(乙基甲氨基)和四(二甲氨基)前驱体原子层沉积Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜铁电性能的比较研究
相关领域
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期刊:Nanoscale Research Letters 作者:Baek Su Kim; Seung Dam Hyun; Taehwan Moon; Keum Do Kim; Young Hwan Lee; et al 出版日期:2020-04-07 |
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