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 Study of novel EUVL mask absorber candidates 新型EUVL掩模吸收剂候选物的研究
相关领域
材料科学
极紫外光刻
同步辐射
吸收（声学）
平版印刷术
折射率
光电子学
波长
相（物质）
辐射
光刻
光学
物理
量子力学
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| 其它 |
期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Meiyi Wu; Devesh Thakare; Jean‐François de Marneffe; Patrick Jaenen; Laurent Souriau; et al 出版日期：2021-05-03 |
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