标题 |
Fraction of Interstitialcy Component of Phosphorus and Antimony Diffusion in Silicon
硅中磷和锑扩散的间隙组分分数
相关领域
锑
扩散
硅
掺杂剂
磷
氮化硅
材料科学
氮化物
基质(水族馆)
分析化学(期刊)
化学
兴奋剂
冶金
纳米技术
光电子学
热力学
环境化学
图层(电子)
海洋学
物理
地质学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Takashi Shimizu; Toshio Takagi; Satoru Matsumoto; Yoshiyuki Satō; Eisuke Arai; et al 出版日期:1998-03-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|