标题 |
Etching Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon
氢化非晶硅的刻蚀性能
相关领域
材料科学
蚀刻(微加工)
异丙醇
干法蚀刻
反应离子刻蚀
无定形固体
各向同性腐蚀
化学工程
非晶硅
硅
等离子体刻蚀
氢
纳米技术
光电子学
晶体硅
结晶学
有机化学
图层(电子)
化学
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:MRS Proceedings 作者:Y. S. Tsuo; Yuting Xu; David W. Baker; S. K. Deb 出版日期:1991-01-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|