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 Effect of annealing temperature on the optoelectronic properties and structure of NiO films 退火温度对NiO薄膜光电性能和结构的影响
相关领域
材料科学
非阻塞I/O
氧化镍
薄膜
电阻率和电导率
透射率
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退火（玻璃）
光电子学
氧化物
溅射
晶格常数
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期刊：Ceramics International 作者：Mingchen Li; Mingjiang Dai; Songsheng Lin; Sheng‐Chi Chen; Jing Xu; et al 出版日期：2021-10-15 |
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