Fundamental studies of the properties of photoresists based on resins containing polymer-bound photoacid generators

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标题	Fundamental studies of the properties of photoresists based on resins containing polymer-bound photoacid generators 基于含聚合物结合光产酸剂的树脂的光致抗蚀剂性能的基础研究相关领域聚合物抵抗光刻胶材料科学化学纳米技术有机化学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.663410
DOI	10.1117/12.663410 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Cheng-Tsung Lee; Nathan D. Jarnagin; Mingxing Wang; Kenneth E. Gonsalves; Jeanette M. Robert; et al 出版日期：2006-03-10
求助人	觞f 在 2024-12-09 13:39:07 发布自江苏，悬赏 20 积分
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