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![]() 用于高选择性蚀刻工艺的SiCl4等离子体选择性掩模沉积
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Miyako Matsui; Makoto Miura; Kenichi Kuwahara 出版日期:2023-09-21 |
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