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标题
Patterning at the Resolution Limit of Commercial Electron Beam Lithography
商用电子束光刻分辨率极限下的图案化
相关领域
抵抗 电子束光刻 平版印刷术 分辨率（逻辑） 材料科学 电子 阴极射线 电子束处理 纳米技术 光电子学 化学 光学 物理 人工智能 量子力学 计算机科学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.2c02339
AI链接 lib4ri.ch lib4ri.ch nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acs.nanolett.2c02339 doi
其它 期刊：Nano Letters
作者：Mohammad S. M. Saifullah; Mohamed Asbahi; Darren C. J. Neo; Zackaria Mahfoud; Hui Ru Tan; et al
出版日期：2022-09-07
求助人
清清 在 2024-12-16 21:36:50 发布自福建，悬赏 10 积分
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