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 The Effect of Depth, AIR Gap Width and ION Implant on Deep Trench Isolation for BCD Technology 深度、气隙宽度和离子注入对BCD技术深沟槽隔离的影响
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电压
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经济
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期刊： 作者：Chen Chen; Bo Kan; Yong Chen; Xiao Li; Li Wang; et al 出版日期：2024-03-17 |
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