标题 |
Low-temperature processable inherently photosensitive polyimide as a gate insulator for organic thin-film transistors
作为有机薄膜晶体管栅极绝缘体的低温可加工固有光敏聚酰亚胺
相关领域
聚酰亚胺
并五苯
材料科学
光刻
薄膜晶体管
反应离子刻蚀
制作
光电子学
干法蚀刻
薄膜
缩聚物
基质(水族馆)
蚀刻(微加工)
聚合物
纳米技术
复合材料
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医学
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地质学
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其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Seungmoon Pyo; Hyunsam Son; Kil-Yeong Choi; Mi Hye Yi; Sung‐Kwon Hong 出版日期:2005-03-24 |
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