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标题
From Monolayer to Thin Film Engineered Bandgap in CVD Grown Bi2Se(3-x)Sx Topological Insulator Alloys
CVD生长Bi2Se(3-x)Sx拓扑绝缘体合金中从单层到薄膜的带隙工程
相关领域
材料科学 拓扑绝缘体 带隙 单层 绝缘体(电) 薄膜 光电子学 凝聚态物理 纳米技术 物理
网址
DOI
10.1039/d3tc03428c doi
其它 期刊:Journal of Materials Chemistry C
作者:Michal Poplinger; Dimitrios Kaltsas; Chen Stern; Pilkhaz Nanikashvili; Adi Levi; et al
出版日期:2024-01-01
求助人
JJ 在 2024-08-06 20:06:49 发布自浙江,悬赏 10 积分
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