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标题
书籍(章节) Growth Characteristics and Properties of Tin-Doped Indium Oxide Thin Films as a Function of Oxygen Pressure When Prepared by E-beam Evaporation
电子束蒸发制备锡掺杂氧化铟薄膜的生长特性和与氧压的关系
相关领域
氧化铟锡 薄膜 材料科学 蒸发 粒度 托尔 分析化学(期刊) 电阻率和电导率 结晶度 透射率 氧气 电子束物理气相沉积 兴奋剂 氧化物 化学 纳米技术 冶金 复合材料 光电子学 电气工程 热力学 物理 工程类 有机化学 色谱法
网址
DOI
10.1007/978-3-319-04573-3_97 doi
其它 期刊:Lecture notes in electrical engineering
作者:Hong-Hsin Huang; Yen‐Ming Chen; Ming-Chih Huang
出版日期:2014-01-01
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再睡十分钟 在 2025-03-22 11:09:33 发布自中国,悬赏 30 积分
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