Molecular dynamics study of SiO2 nanohole etching by fluorocarbon ions

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标题	Molecular dynamics study of SiO2 nanohole etching by fluorocarbon ions 碳氟离子刻蚀SiO2纳米孔的分子动力学研究相关领域蚀刻（微加工）溅射材料科学离子纳米制作反应离子刻蚀辐照纳米技术光电子学化学薄膜复合材料医学替代医学物理有机化学图层（电子）病理核物理学
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00023...
DOI	10.1116/6.0002380 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Charisse Marie D. Cagomoc; Michiro Isobe; Satoshi Hamaguchi 出版日期：2023-02-07
求助人	阿亦在 2023-11-21 17:07:40 发布自湖南，悬赏 10 积分
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