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标题
Polycrystalline silicon carbide film deposition using monomethylsilane and hydrogen chloride gases
使用单甲基硅烷和氯化氢气体沉积多晶碳化硅薄膜
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网址
https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2007.01.003
DOI
10.1016/j.jcrysgro.2007.01.003 doi
其它 期刊：Journal of Crystal Growth
作者：Hitoshi Habuka; Mayuka Watanabe; Yutaka Miura; Mikiya Nishida; Takashi Sekiguchi
出版日期：2007-01-18
求助人
细腻的靖巧 在 2024-10-26 15:39:19 发布自浙江，悬赏 10 积分
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