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 Silicon oxynitride thin films by plasma-enhanced atomic layer deposition using a hydrogen-free metal-organic silicon precursor and N2 plasma 无氢金属有机硅前驱体和N2等离子体等离子体增强原子层沉积氧氮化硅薄膜
相关领域
材料科学
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硅烷
硅
原子层沉积
分析化学（期刊）
薄膜
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吸附
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Hae Lin Yang; Tae-Yeon Kim; Gi-Beom Park; Ara Yoon; Ki-cheol Song; et al 出版日期：2023-05-26 |
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