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 Thermal annealing effects on the stress stability in silicon dioxide films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition 热退火对等离子体增强化学气相沉积二氧化硅薄膜应力稳定性的影响
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
退火（玻璃）
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硅
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期刊：Microsystem Technologies-micro-and Nanosystems-information Storage and Processing Systems 作者：Jianyu Fu; Haiping Shang; Zhigang Li; Weibing Wang; Dapeng Chen 出版日期：2016-06-02 |
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