| 标题 |
 Atomic Layer Deposition of Hafnium Oxide Passivating Layers on Silicon: Impact of Precursor Selection 硅上氧化铪钝化层的原子层沉积：前驱体选择的影响
相关领域
原子层沉积
铪
硅
图层（电子）
选择（遗传算法）
沉积（地质）
材料科学
氧化物
冶金
纳米技术
地质学
计算机科学
锆
古生物学
人工智能
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 作者：Sophie L. Pain; Anup Yadav; David Walker; Nicholas E. Grant; John D. Murphy 出版日期：2024-08-07 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
寻道图强
张子捷
spark810
乐乐乐乐乐乐
tuanheqi
Henry
杳鸢
YifanWang
shinysparrow
VDC
nenoaowu
火火
活泼蜜蜂
iWatchTheMoon
ss25
五十一笑声
527
Hayat
mmmm
Singularity
皖公网安备34019202002308
