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 Atomic Layer Deposition of Hafnium Oxide Passivating Layers on Silicon: Impact of Precursor Selection 硅上氧化铪钝化层的原子层沉积：前驱体选择的影响
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期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 作者：Sophie L. Pain; Anup Yadav; David Walker; Nicholas E. Grant; John D. Murphy 出版日期：2024-08-07 |
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