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标题
[高分] 书籍(章节) silicon carbide doping by ion implantation
离子注入碳化硅掺杂
相关领域
材料科学 兴奋剂 碳化硅 离子注入 光电子学 离子 工程物理 纳米技术 冶金 工程类 量子力学 物理
网址
DOI
10.21741/9781644900673-3 doi
提醒:求助人提供的doi与AI识别不一致 10.4028/www.scientific.net/msf.353-356.549 Doi
求助人
徐一一 在 2024-11-12 09:29:22 发布自北京,悬赏 50 积分
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  • 9天前,求助关闭

    科研通管家 科研通管家 机器人 关闭了本次求助。

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  • 14天前

    徐一一 徐一一 求助人 Lv21 驳回了 华仔 上传的文件

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    doi错误
  • 14天前

    华仔 华仔 Lv12 上传了文件

    已驳回 20241112092925-574c7c4e-210.pdf (520.08 KB)
  • 14天前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献,机器人已退出,请等待人工下载

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    09:29:23 科研通AI机器人(英国 伦敦)收到请求,开始寻找文献
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  • 14天前

    徐一一 徐一一 求助人 Lv21 发起了本次求助

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