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 Effects of process parameters and chamber structure on plasma uniformity in a large-area capacitively coupled discharge 工艺参数和腔室结构对大面积电容耦合放电等离子体均匀性的影响
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期刊：Vacuum 作者：Jicheng Zhou; Jia Liao; Jing Huang; Chen Techao; Bowen Lv; et al 出版日期：2021-10-13 |
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