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 Evaluation of chemical mechanical polishing characteristics using mixed abrasive slurry: A study on polishing behavior and material removal mechanism 使用混合研磨剂浆评估化学机械抛光特性：抛光行为和材料去除机制的研究
相关领域
抛光
化学机械平面化
磨料
泥浆
材料科学
表面粗糙度
钻石
无定形固体
冶金
复合材料
表面光洁度
化学工程
化学
结晶学
工程类
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：X. Zhu; Juxuan Ding; Zhangchao Mo; Xuesong Jiang; Jifei Sun; et al 出版日期：2024-09-03 |
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