| 标题 |
 Exposure-dependent refractive index of Nanoscribe IP-Dip photoresist layers Nanoscribe IP-Dip光致抗蚀剂层的曝光依赖性折射率
相关领域
折射率
光刻胶
光学
材料科学
紫外线
吸收（声学）
归一化频率（单位）
波长
光电子学
阶跃索引配置文件
激光器
X射线光学
光纤
图层（电子）
纳米技术
物理
渐变折射率纤维
X射线
频率合成器
相位噪声
光纤传感器
锁相环
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
妞妞公主喜欢派大星
eve
嗯哼
Hayat
Mia
面向杂志编论文
FIN
shinysparrow
坚强的广山
千早爱音
可爱的函函
司空天德
CAOHOU
tuanheqi
无名
木木
苏卿
shikaly
华仔
FashionBoy
皖公网安备34019202002308
