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Rational band engineering and structural manipulations inducing high thermoelectric performance in n-type CoSb3 thin films
在n型CoSb3薄膜中诱导高热电性能的合理能带工程和结构操作
相关领域
材料科学
热电效应
薄膜
兴奋剂
塞贝克系数
掺杂剂
热电材料
光电子学
带隙
溅射沉积
费米能级
纳米技术
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溅射
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电子
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期刊:Nano Energy 作者:Zhuanghao Zheng; Xiaolei Shi; Dong-Wei Ao; Wei-Di Liu; Yue-Xing Chen; et al 出版日期:2021-03-01 |
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