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 Atomic layer deposition of α-Al2O3 from trimethylaluminum and H2O: Effect of process parameters and plasma excitation on structure development 三甲基铝和H2O原子层沉积α-Al2O3：工艺参数和等离子体激发对结构发展的影响
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期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Lauri Aarik; Carl‐Thomas Piller; Jüri Raud; Rasmus Talviste; Indrek Jõgi; et al 出版日期：2023-05-01 |
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