Protection of extreme ultraviolet lithography masks. I. Thermophoretic protection factors at low pressure for diffusing nanoscale particles

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标题	Protection of extreme ultraviolet lithography masks. I. Thermophoretic protection factors at low pressure for diffusing nanoscale particles 极紫外光刻掩模的防护。I.用于扩散纳米级颗粒的低压热泳保护因子相关领域极紫外光刻热泳粒子（生态学）极端紫外线十字线平版印刷术材料科学抵抗颗粒沉积紫外线光学纳米技术光电子学纳米颗粒物理航程（航空）复合材料薄脆饼地质学激光器海洋学纳米流体图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1116/1.4916210
DOI	10.1116/1.4916210 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Leonard E. Klebanoff; Anthony S. Geller; J. R. Torczynski; M. A. Gallis; Daniel J. Rader; et al 出版日期：2015-03-27
求助人	Slian 在 2024-12-27 16:27:29 发布自北京，悬赏 10 积分
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