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 Chemically amplified photoresists for 193‐nm photolithography: Effect of molecular structure and photonic parameters on photopatterning 193纳米光刻用化学放大光刻胶：分子结构和光子参数对光图案化的影响
相关领域
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生物
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期刊：Journal of Polymer Science Part A Polymer Chemistry 作者：Hassan Ridaoui; Ali Dirani; Olivier Soppera; Esma Ismailova; Cyril Brochon; et al 出版日期：2010-02-03 |
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