Molecular dynamics investigation of nano-polishing on silicon carbide substrate with rough topography using a rotating diamond abrasive

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标题	Molecular dynamics investigation of nano-polishing on silicon carbide substrate with rough topography using a rotating diamond abrasive 旋转金刚石磨料在粗糙形貌碳化硅衬底上纳米抛光的分子动力学研究相关领域材料科学磨料抛光碳化硅钻石纳米- 基质（水族馆）硅碳化物复合材料冶金纳米技术海洋学地质学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mtcomm.2024.110744
DOI	10.1016/j.mtcomm.2024.110744 doi
其它	期刊：Materials Today Communications 作者：Bing Wu; Yunyun Sun; Henry Tan; Shijing Wu 出版日期：2024-10-01
求助人	张浩威在 2025-02-26 13:32:09 发布自湖南，悬赏 10 积分
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