Review Article: Reactions of fluorine atoms with silicon, revisited, again

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标题	Review Article: Reactions of fluorine atoms with silicon, revisited, again 评论文章：氟原子与硅的反应，再次重温相关领域焊剂（冶金）硅氟 Atom（片上系统）蚀刻（微加工）化学化学反应等离子体离子原子物理学各向同性等离子体刻蚀分析化学（期刊）物理有机化学核物理学光学图层（电子）计算机科学嵌入式系统
网址	https://doi.org/10.1116/1.4983922 AI链接 scitation.org osti.gov osti.govdoi.org
DOI	10.1116/1.4983922 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Vincent M. Donnelly 出版日期：2017-05-31
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