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Low temperature (<700 °C) SiO2 and Si-rich SiO2 films: Short review
低温(<700°C)SiO2和富硅SiO2薄膜:综述
相关领域
材料科学
化学气相沉积
电介质
硅
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期刊:Journal of vacuum science and technology 作者:Ciro Falcony; D. Estrada-Wiese; Jessica De Anda; Oscar Pérez-Díaz; Mariano Aceves-Mijares 出版日期:2023-05-01 |
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