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标题
Improved plasma etching and nitriding technology for enhanced PVD coating performance using advanced arc enhanced glow discharge
改进的等离子体蚀刻和氮化技术，使用先进的电弧增强辉光放电增强PVD涂层性能
相关领域
渗氮 材料科学 等离子体 涂层 蚀刻（微加工） 弧（几何） 辉光放电 电弧 光电子学 物理气相沉积 冶金 复合材料 图层（电子） 化学 电极 机械工程 工程类 物理 量子力学 物理化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2025.131753
DOI
10.1016/j.surfcoat.2025.131753 doi
其它 期刊：Surface and Coatings Technology
作者：Dominic Stangier; Nelson Filipe Lopes Dias; Tim Henning; Finn Ontrup; W. Tillmann; et al
出版日期：2025-01-01
求助人
PHW 在 2025-01-29 18:45:46 发布自河北，悬赏 10 积分
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