Semiconductors Application Forms and Doping Benefits to Wastewater Treatment: A Comparison of TiO2, WO3, and g-C3N4

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标题	Semiconductors Application Forms and Doping Benefits to Wastewater Treatment: A Comparison of TiO2, WO3, and g-C3N4 半导体的应用形式和掺杂对废水处理的益处：TiO2、WO3和g-C3N4的比较相关领域光催化材料科学纳米技术催化作用兴奋剂氧化物废水化学环境科学环境工程冶金光电子学有机化学
网址	https://www.mdpi.com/2073-4344/12/10/1218/pdf?version=166556...
DOI	10.3390/catal12101218 doi
其它	期刊：Catalysts 作者：Eryk Fernandes; João Gomes; Rui C. Martins 出版日期：2022-10-12
求助人	soong 在 2024-10-14 09:30:28 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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