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 Technology of static oblique lithography used to improve the fidelity of lithography pattern based on DMD projection lithography 基于DMD投影的静态倾斜光刻技术提高光刻图形保真度
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期刊：Optics and Laser Technology 作者：Long Huang; Chunxia Liu; Han Zhang; Shaoqing Zhao; Mingyue Tan; et al 出版日期：2022-09-20 |
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