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 Effects of annealing conditions on structural and ferroelectric properties of CeO2-HfO2 solid solution thin films on InAs substrates fabricated by chemical solution deposition 退火条件对化学溶液沉积InAs衬底上CeO2-HfO2固溶体薄膜结构和铁电性能的影响
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期刊：Journal of alloys and compounds 作者：Shuaizhi Zheng; Jing Chen; Zhaotong Liu; Puqi Hao; Qing Yang; et al 出版日期：2023-12-01 |
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