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 New Photoresist Materials for 157-nm Lithography. Poly[Vinylsulfonyl Fluoride-co-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxypropyl)-styrene] Partially Protected with tert-Butoxycarbonyl 用于157纳米光刻的新型光刻胶材料。用叔丁氧基羰基部分保护的聚[乙烯基磺酰氟-co-4-(1,1,1,3,3,3-六氟-2-羟丙基)-苯乙烯]
相关领域
共聚物
四甲基氢氧化铵
材料科学
高分子化学
苯乙烯
三氟甲磺酸
水溶液
氟化物
聚合
光刻胶
自由基聚合
四甲基铵
化学
聚合物
物理化学
无机化学
有机化学
纳米技术
离子
催化作用
图层（电子）
复合材料
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| 其它 |
期刊：Chemistry of Materials 作者：Tsuyohiko Fujigaya; Yuji Sibasaki; Shinji Ando; Shinji Kishimura; M. Endo; et al 出版日期：2003-03-12 |
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