SciHub
文献互助
期刊查询
一搜即达
科研导航
交流社区
即时热点
登录
注册
发布
文献
求助
首页
我的求助
捐赠本站
已入深夜,您辛苦了!由于当前在线用户较少,发布求助请尽量完整的填写文献信息,科研通机器人24小时在线,伴您度过漫漫科研夜!祝你早点完成任务,早点休息,好梦!
南风吹梦
Lv3
300 积分
2024-09-05 加入
最近求助
最近应助
互助留言
New Photoresist Materials for 157-nm Lithography. Poly[Vinylsulfonyl Fluoride-co-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxypropyl)-styrene] Partially Protected with tert-Butoxycarbonyl
12天前
已完结
没有进行任何应助
速度真快
12天前
最近帖子
最近评论
没有发布任何帖子
没有发布任何评论