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 书籍（章节） Corrosion inhibitors for Cu chemical mechanical planarization (CMP) 铜化学机械平坦化缓蚀剂
相关领域
化学机械平面化
钝化
铜
腐蚀
材料科学
铜水管的冲蚀腐蚀
冶金
溶解
泥浆
阻挡层
图层（电子）
氧化物
铜互连
抛光
化学工程
复合材料
工程类
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期刊：Elsevier eBooks 作者：Baimei Tan; Lei Guo; Xinhuan Niu; Da Yin; Tengda Ma; et al 出版日期：2022-01-01 |
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