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标题
Rapid growth of α-Ga2O3 by HCl-boosted halide vapor phase epitaxy and effect of precursor supply conditions on crystal properties
HCl增强卤化物气相外延快速生长α-Ga2O3及前驱体供应条件对晶体性能的影响
相关领域
卤化物 化学 增长率 分析化学（期刊） 外延 杂质 气相 Crystal（编程语言） 晶体生长 相（物质） 结晶学 无机化学 几何学 色谱法 有机化学 热力学 计算机科学 物理 数学 程序设计语言 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6641/ab7843
AI链接 go.jp go.jpdoi.org
DOI
10.1088/1361-6641/ab7843 doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：Yuichi Oshima; Katsuaki Kawara; Takayoshi Oshima; Mitsuru Okigawa; Takashi Shinohe
出版日期：2020-02-20
求助人
wwx 在 2025-04-02 16:36:12 发布自山东，悬赏 10 积分
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