Fabrication of 100 nm pitch copper interconnects by electron beam lithography

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作者
Wei Wu,R. Jonckheere,Zsolt Tökei,S. H. Brongersma,M. Van Hove,Karen Maex
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Vacuum Society]
卷期号:22 (4): L11-L14 被引量:5
标识
DOI:10.1116/1.1771668
摘要

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