Improved value for the silicon intrinsic carrier concentration from 275 to 375 K

二极管 航程(航空) 材料科学 大气温度范围 载流子寿命 热扩散率 标准差 载流子 分析化学(期刊) 光电子学 凝聚态物理 化学 物理 热力学 数学 统计 复合材料 色谱法
作者
A.B. Sproul,Martin A. Green
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:70 (2): 846-854 被引量:200
标识
DOI:10.1063/1.349645
摘要

A recent review has suggested that the commonly cited value of 1.45×1010 cm−3 for the silicon intrinsic carrier concentration at 300 K is inconsistent with the best experimental data. An alternate value of 1.08×1010 cm−3 was proposed. From measurements of the current-voltage characteristics of p-n junction diodes, this paper reports a new and more accurate determination of this parameter over the 275–375 K temperature range which supports such lower values. The one-standard-deviation uncertainty in the measurement of the intrinsic carrier concentration is estimated to lie in the 3%–4% range, about three times smaller than previous measurements at these temperatures. Additionally, this technique provides information on the minority carrier electron diffusivity in silicon.
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