The effect of HVPE reactor geometry on GaN growth rate—experiments versus simulations

增长率 氢化物 气相 外延 材料科学 增长模型 相(物质) 化学 热力学 几何学 纳米技术 冶金 物理 数学 金属 有机化学 数理经济学 图层(电子)
作者
C.E.C. Dam,A. Grzegorczyk,P.R. Hageman,R. Dorsman,Chris R. Kleijn,P.K. Larsen
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:271 (1-2): 192-199 被引量:45
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2004.07.059
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