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Modeling, simulations, and optimizations of gallium oxide on gallium–nitride Schottky barrier diodes

材料科学 氮化镓 光电子学 肖特基二极管 击穿电压 二极管 肖特基势垒 氧化物 外延 氮化物 金属半导体结 图层(电子) 电压 纳米技术 电气工程 冶金 工程类
作者
Tao Fang,Lingqi Li,Guangrui Xia,Hongyu Yu
出处
期刊:Chinese Physics B [IOP Publishing]
卷期号:30 (2): 027301-027301 被引量:1
标识
DOI:10.1088/1674-1056/abc0dd
摘要

With technology computer-aided design (TCAD) simulation software, we design a new structure of gallium oxide on gallium–nitride Schottky barrier diode (SBD). The parameters of gallium oxide are defined as new material parameters in the material library, and the SBD turn-on and breakdown behavior are simulated. The simulation results reveal that this new structure has a larger turn-on current than Ga 2 O 3 SBD and a larger breakdown voltage than GaN SBD. Also, to solve the lattice mismatch problem in the real epitaxy, we add a ZnO layer as a transition layer. The simulations show that the device still has good properties after adding this layer.
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