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Low-Damage Processed and High-Pressure Annealed High-k Hafnium Zirconium Oxide Capacitors near Morphotropic Phase Boundary with Record-Low EOT of 2.4Å & high-k of 70 for DRAM Technology

铪 高压 材料科学 德拉姆 电容器 锆 相界 退火（玻璃） 相（物质） 高-κ电介质 光电子学 冶金 电气工程 化学 工程物理 电介质 物理 工程类 电压 有机化学
作者
V. Gaddam,Junghyeon Hwang,Hunbeom Shin,Chaeheon Kim,Giuk Kim,Hyungjun Kim,Jooho Lee,Hyuncheol Kim,Bumsu Park,Suhwan Lim,SangYun Kim,Kwang-Soo Kim,Sungho Lee,Daewon Ha,Jinho Ahn,Sanghun Jeon
标识
DOI：10.1109/vlsitechnologyandcir46783.2024.10631348
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